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製品FAQ&活用事例

前工程要素機器関連

CVD 排ガス処理システムについて

温度検出ウェハについて

ヒーターについて

CVD 排ガス処理システムについて

Q1
装置構成は
A1
チャンバー、電極、RF 電源の 3 部品で非常にシンプルに構成されています。
Q2
使用箇所は
A2
主に、LPCVD、PECVD 装置の真空排気ライン (ポンプ上流側) に設置します。
Q3
対応プロセス
A3
ウェハ、ガラス基板の成膜プロセスは、ほぼ全てに対応可能です。
Q4
どのようにトラップするのですか
A4
電極内でプラズマを発生させ、流入した未反応ガスを膜として電極板にトラップします。
Q5
設置メリットは
A5
ポンプライフの延長、CVD 装置ダウンタイムの削減等による、大幅なコスト削減に寄与します。

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温度検出ウェハについて

Q6
対応プロセス
A6
拡散、CVD、アニール、スパッター、レジストベーク等、加熱する用途で対応可能です。
Q7
温度範囲は
A7
-40 ℃ ~ 1400 ℃ で使用可能です。
Q8
熱電対の種類は
A8
主に K 型、R 型、他にT型等を各種取り揃えています。
Q9
ウェハと熱電対の取り付け方法は
A9
高温仕様はシリコン溶接にて取り付けています。
Q10
熱電対の長さは
A10
任意の長さにより製作可能です。

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ヒーターについて

Q11
製品の種類は
A11
材質的に大別して、テフロン系/石英/ステンレスの 3 種類があります。
いわゆる温度制御部が一体型の装置群と、インライン型の製品群、及びタンク投げ込み可能なヒーターもあります。
Q12
どんな媒体を加熱できますか
A12
超純水、ケミカル (酸・アルカリなど) に対応できます。
その他インラインヒーターにはガス (窒素など) に対応可能な商品もあります。
Q13
対応プロセス
A13
ウェハやガラス基板を洗浄する工程ではもちろん、その他の工程でも何らかの溶液を加熱 (保温) する用途であれば対応可能です。
Q14
製造装置への特注仕様は可能ですか
A14
標準品以外にも、各装置の多種多様な仕様に見合う商品を受注生産できます。
Q15
純水加熱装置の対応可能流量は
A15
2 ~ 50 LPM の範囲でコントローラが管理しています。
これは、低流量時の空焚き対策のインターロックです。大流量への対応は ~ 200 kW という幅広い商品群で対応可能です。

 

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