前工程要素機器関連 : ヒューグルエレクトロニクス株式会社

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CVD 排ガス処理システムFAQ
温度検出ウェハFAQ
ヒーターFAQ

CVD 排ガス処理システムについて

Q1装置構成は
Q2使用箇所は
Q3対応プロセス
Q4どのようにトラップするのですか
Q5設置メリットは

温度検出ウェハについて

Q6対応プロセス
Q7温度範囲は
Q8熱電対の種類は
Q9ウェハと熱電対の取り付け方法は
Q10熱電対の長さは

ヒーターについて

Q11製品の種類は
Q12どんな媒体を加熱できますか
Q13対応プロセス
Q14製造装置への特注仕様は可能ですか
Q15純水加熱装置の対応可能流量は

CVD 排ガス処理システムについて

Q1: 装置構成は
A1: チャンバー、電極、RF 電源の 3 部品で非常にシンプルに構成されています。

Q2: 使用箇所は
A2: 主に、LPCVD、PECVD 装置の真空排気ライン (ポンプ上流側) に設置します。

Q3: 対応プロセス
A3: ウェハ、ガラス基板の成膜プロセスは、ほぼ全てに対応可能です。

Q4: どのようにトラップするのですか
A4: 電極内でプラズマを発生させ、流入した未反応ガスを膜として電極板にトラップします。

Q5: 設置メリットは
A5: ポンプライフの延長、CVD 装置ダウンタイムの削減等による、大幅なコスト削減に寄与します。

温度検出ウェハについて

Q6: 対応プロセス
A6: 拡散、CVD、アニール、スパッター、レジストベーク等、加熱する用途で対応可能です。

Q7: 温度範囲は
A7: -40 ℃ ～ 1400 ℃ で使用可能です。

Q8: 熱電対の種類は
A8: 主に K 型、R 型、他にT型等を各種取り揃えています。

Q9: ウェハと熱電対の取り付け方法は
A9: 高温仕様はシリコン溶接にて取り付けています。

Q10: 熱電対の長さは
A10: 任意の長さにより製作可能です。

ヒーターについて

Q11: 製品の種類は
A11: 材質的に大別して、テフロン系/石英/ステンレスの 3 種類があります。
いわゆる温度制御部が一体型の装置群と、インライン型の製品群、及びタンク投げ込み可能なヒーターもあります。

Q12: どんな媒体を加熱できますか
A12: 超純水、ケミカル (酸・アルカリなど) に対応できます。
その他インラインヒーターにはガス (窒素など) に対応可能な商品もあります。

Q13: 対応プロセス
A13: ウェハやガラス基板を洗浄する工程ではもちろん、その他の工程でも何らかの溶液を加熱 (保温) する用途であれば対応可能です。

Q14: 製造装置への特注仕様は可能ですか
A14: 標準品以外にも、各装置の多種多様な仕様に見合う商品を受注生産できます。

Q15: 純水加熱装置の対応可能流量は
A15: 2 ～ 50 LPM の範囲でコントローラが管理しています。
これは、低流量時の空焚き対策のインターロックです。大流量への対応は～ 200 kW という幅広い商品群で対応可能です。