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フォトマスク関連容器

全自動EUV POD洗浄システム REN

全自動EUV POD洗浄システム REN

最新の露光技術であるEUV露光に用いられるEUV PODのための全自動洗浄装置です。Inner POD、Outer PODの分解/再組立はもちろん、各PODは個別の専用CHで洗浄/乾燥されます。 完全無人稼動も可能です。 ナノレベルのパーティクル除去を半導体デバイス容器洗浄装置メーカーとして30年間構築した独自の洗浄/乾燥技術で実現します。

SMIF POD/RSP200 洗浄システム CP-2200

SMIF POD/RSP200 洗浄システム CP-2200

CP-2200 は半導体デバイス容器洗浄装置メーカーならではの高度な知識と最新の技術が装備された研究用、パイロットライン等に最適な洗浄・乾燥装置です。 CP - 2200 は8 インチ用 SMIF PODはもちろん、RSP200 /8インチオープンカセットの精密洗浄・完全乾燥も可能です。

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