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製品紹介

フォトマスク関連容器

全自動EUV POD洗浄システム REN

最新の露光技術であるEUV露光に用いられるEUV PODのための全自動洗浄装置です。Inner POD、Outer PODの分解/再組立はもちろん、各PODは個別の専用CHで洗浄/乾燥されます。
完全無人稼動も可能です。
ナノレベルのパーティクル除去を半導体デバイス容器洗浄装置メーカーとして30年間構築した独自の洗浄/乾燥技術で実現します。

製品概要

・省フットプリント設計
・独自の洗浄技術による超精密洗浄
・高効率乾燥方式による完全乾燥実現
・全自動POD開閉によるクロスコンタミネーション防止
・RSP200対応可能
・ロボットハンドセルフクリーニングシステム内蔵
・個別専用チャンバー処理

仕様

装置本体:1230(W) × 2900(D) ×2300(H) mm(突起物含まず)


製品紹介ビデオ

※ 本装置の詳細、デモンストレーションのご用命は、弊社本社・もしくは営業所へお問い合せください。

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