半導体およびフラットパネル製造関連機器・静電気除去装置・静電気測定機器・純水洗浄装置・塵埃除去装置・半導体検査機器などの開発・製造・販売および輸出入
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容器洗浄12インチ
FOUP / FOSB 洗浄システム HNM-300
FOUPやFOSBの洗浄により半導体製造の高生産性を維持・向上させるため、各種FOUP / FOSBを1台の装置で洗浄・乾燥処理可能なHNM-300を開発致しました。
本装置1台で、いかなるプロセスキットの変更や段取り換えも不要。このようなFOUP / FOSB洗浄システムは他社に類を見ません。
製品概要
●スループット倍増（当社旧モデル比）
●省フットプリント（別置きサブユニットなし）
●ノズル洗浄方式による超精密洗浄
●信頼と実績の『ホットエアーナイフ方式』と『高速スピン方式』による完全乾燥
●ファンフィルタユニット及びイオナイザ搭載による除塵・除電対策
●容器分離・合体用作業スペース確保（別途クリーンブースの手配不要）
●バクテリア発生予防のための自動パージ機能
●タッチパネルによる高操作性
●豊富なインターロック完備により高安全性を確保
仕様
| 寸法 | 1300 (W) ×1406 (D) ×2000 (H) mm | |
| 重量 | 800kg | |
| 電源 | 3φ, 200V±10V | |
| 純水 | 流量：10LPM | 圧力：0.3MPa |
| CDA | 流量：2500LPM | 圧力：0.75MPa |
| 排気 | 3000LPM | |
| 排水 | 10LPM | |
