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製品紹介

容器洗浄~8インチ

SMIF POD/RSP200 洗浄システム CP-2200

CP-2200 は半導体デバイス容器洗浄装置メーカーならではの高度な知識と最新の技術が装備された研究用、パイロットライン等に最適な洗浄・乾燥装置です。
CP - 2200 は8 インチ用 SMIF PODはもちろん、RSP200 /8インチオープンカセットの精密洗浄・完全乾燥も可能です。

製品概要

・省フットプリント設計
・純水ジェット洗浄・エアーナイフ温風乾燥
・死水防止対策
・タッチパネルによる簡単操作
・シーケンサ方式採用のコントローラ
・容易なメンテナンス
・ニーズに合わせた種々のオプション設計が可能

仕様

装置本体:1300(W) × 900(D) ×1500(H) mm(突起物含まず)
付帯設備: 600(W)×1000(D)×1400(H)mm(突起物含まず)
 

※本装置の詳細は、弊社本社・もしくは営業所へお問い合せください。

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