

CVD排ガス処理システム
この装置は LPCVD 及び PECVD装置の排気ラインに設置し、未反応ガスをプラズマにより反応促進させ堆積、除去を行う装置です。
装置はチャンバー、電源、電極にて構成されています。
電極は洗浄再生可能で、取り外し後洗浄または、In - Situ でのクリーニングも可能です。
●ポンプ保護によるメンテナンス頻度の削減
●装置ダウンタイム削減
●パーティクルの削減
| チャンバーサイズ | 直径 290×424 (H) mm |
| チャンバー材質 | Al 製 (表面ハードアルマイト処理を施しています) |
| 総重量 | 18.4 Kg (チャンバー全体の重量) |
| 取り付けフランジ | ISO 80K (M 8 × 4 または 8 箇所) (チャンバー上下フランジ共に) |
| 使用圧力範囲 | 5 Pa ~ 10,000 Pa |
| RF 電源 | 入力電源:3 相、200 VAC、20A |
| 電極 | 材質 SUS 316L 製 |
| RF 出力 | ガス流量、圧力等によるプロセス条件にて RF 出力 を決定します。 |

