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「カセット」

自動カセット・ボックス洗浄システム SC-8

自動カセット・ボックス洗浄システム SC-8

本装置はCRD-4500の後継機として開発され、最大8"ウェハキャリア及びBOXまで対応可能な自動洗浄システムです。洗浄対象は専用トレイにセットされ、各処理チャンバーで効率の良い洗浄/乾燥が行われます。ワイヤトレイの搬送には、パーティクル防止対策がなされてたヒューグル独自の特殊ローラー方式を採用しています。

SMIF POD/RSP200 洗浄システム CP-2200

SMIF POD/RSP200 洗浄システム CP-2200

CP-2200 は半導体デバイス容器洗浄装置メーカーならではの高度な知識と最新の技術が装備された研究用、パイロットライン等に最適な洗浄・乾燥装置です。 CP - 2200 は8 インチ用 SMIF PODはもちろん、RSP200 /8インチオープンカセットの精密洗浄・完全乾燥も可能です。

全自動EUV POD洗浄システム REN

全自動EUV POD洗浄システム REN

最新の露光技術であるEUV露光に用いられるEUV PODのための全自動洗浄装置です。Inner POD、Outer PODの分解/再組立はもちろん、各PODは個別の専用CHで洗浄/乾燥されます。 完全無人稼動も可能です。 ナノレベルのパーティクル除去を半導体デバイス容器洗浄装置メーカーとして30年間構築した独自の洗浄/乾燥技術で実現します。

ウェハ整列機 ANA200 / MNA200 / AFA200 / MFA200

ウェハ整列機 ANA200 / MNA200 / AFA200 / MFA200

自動でウェハを整列(マニュアルタイプもあり)。ノッチウェハ(ANA、MNA)又はフラットウェハ(AFA、MFA)をバッチ整列。省スペースの卓上タイプ。200mmに対応。

ウェハ整列機 AFA150 / MFA150 / ANA150 / MNA150

ウェハ整列機 AFA150 / MFA150 / ANA150 / MNA150

自動でウェハを整列(マニュアルタイプもあり)。ノッチウェハ(ANA、MNA)又はフラットウェハ(AFA、MFA)をバッチ整列。省スペースの卓上タイプ。150mmに対応。

ウェハ移載機 SPP200 / SPP150

ウェハ移載機 SPP200 / SPP150

薄型ウェハ対応(TAIKOプロセス)シングルピックアップのウェハ移載機。 ウェハをキャリアから1枚ずつピックアップして搬送します。キャリアからキャリアへ移動及びキャリア内での移動にも対応。省スペースの卓上タイプ。

ウェハ移載機 BPP200 / BPP150

ウェハ移載機 BPP200 / BPP150

センサによりマッピングを行い正確なウェハの位置を読み込みます。 キャリアからキャリアへ一括して移載。省スペースの卓上タイプ。

ウェハ移載機 AWT200 / AWT150 / MWT200 / MWT150

ウェハ移載機 AWT200 / AWT150 / MWT200 / MWT150

自動でウェハをスライド(マニュアルタイプもあり)。SEMI規格のキャリア間にて水平なバッチ移載。省スペースの卓上タイプ。

FOUP/FOSB洗浄システム HNM-300

FOUP/FOSB洗浄システム HNM-300

FOUPやFOSBの洗浄により半導体製造の高生産性を維持・向上させる概念が必要不可欠な時代です。HNM-300は、1台で各種FOUP / FOSBの洗浄/乾燥処理が可能です。 ヒューグル独自のチャンバー構造によりいかなるプロセスキットの変更や段取り換えも不要です。

全自動FOUP洗浄システム UPC-12500 SORA

全自動FOUP洗浄システム UPC-12500 SORA

300mmウェハ用FOUPの自動洗浄装置としては、世界トップクラスの実績と信頼を得てきたUPC-12100をモデルチェンジ。現代の半導体製造には不可欠な高品質・高スループット・省エネをコンセプトに改良されました。SEMI規格はもちろん、ULやCE規格にも準拠しております。自動搬送システム(AMHS)対応、通信プロトコルはGEM300に対応しており、オンライン管理にも相応しい装置です。 世界最高水準のFOUP洗浄装置、是非、ご検討下さい。

低圧配線式 DC 式イオナイズィングバー MODEL 453S

 低圧配線式 DC 式イオナイズィングバー MODEL 453S

半導体や LCD 基板の製造工程や、電子機器の実装工程のクリーンユニットに設置する事により、静電気による塵埃の付着や放電による 製品の破壊を防止できます。コントローラー部と放電バー間に低電圧信号線を採用する事により、安全性が向上しています。

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