半導体およびフラットパネル製造関連機器・静電気除去装置・静電気測定機器・純水洗浄装置・塵埃除去装置・半導体検査機器などの開発・製造・販売および輸出入

手のひらサイズの小型設計により、狭い装置内等への搭載に優れています。 イオン発生方式は、高周波方式を採用しているため、イオンバランスを均一に保ち、精密な除電が可能です。 放電針の「クリーニング警報機能」、高圧異常時の「安全回路機能」を組み込んだ安全設計です。

半導体製造工程における洗浄技術に 最大の技術と豊富な経験を持つ ヒューグルエレクトロニクス株式会社が、 長年蓄積した高度な洗浄ノウハウにより 素材や形状の変化を損なうことなく 高清浄の洗浄を約束する高効率設計の システムです。

300mmウェハ用FOUPの自動洗浄装置としては、世界トップクラスの実績と信頼を得てきたUPC-12100をモデルチェンジ。現代の半導体製造には不可欠な高品質・高スループット・省エネをコンセプトに改良されました。SEMI規格はもちろん、ULやCE規格にも準拠しております。自動搬送システム（AMHS）対応、通信プロトコルはGEM300に対応しているため、オンラインでの管理にも相応しい装置として実現しています。 世界最高水準のFOUP洗浄装置、是非、ご検討下さい。

全自動 300 mm FOUP 洗浄システム SECS II プロトコルによる OHT / RGV 自動搬送システムに対応した、超音波 ジェット純水による全自動 300 mm FOUP 洗浄システムです。 ヒューグルエレクトロニクスの、容器洗浄 システムにおける豊富な経験と技術を 結実させた最上位機種です。

半導体プロセスは、限りない微細化、新材料の導入、ウェハの大口径化の途上に あります。膨大な投資の効率を上げるため、ミニエンバイロメント (局所清浄化) が 本格的に導入されつつあります。 8 インチのラインでは、SMIF POD が導入され、その清浄度管理が、重要な課題となっています。 ヒューグルエレクトロニクスは、各種ウェハ用容器洗浄装置の長い経験と豊富な実績を 活かし、業界で唯一の全自動搬送、ベース開閉機能付き、SMIF POD 洗浄システムを 開発し、すでに多くの量産ラインで稼動しています。

FOUPやFOSBの洗浄により半導体製造の高生産性を維持・向上させるため、各種FOUP / FOSBを1台の装置で洗浄・乾燥処理可能なHNM-300を開発致しました。 本装置1台で、いかなるプロセスキットの変更や段取り換えも不要。このようなFOUP / FOSB洗浄システムは他社に類を見ません。

8 インチ用 SMIF POD の精密洗浄・乾燥を目的として開発された前面操作方式のマニュアルセット方式です。 CP - 2200 は半導体デバイスの容器洗浄装置メーカーならではの高度な知識と最新の技術が装備された研究用、パイロットライン等に最適な洗浄・乾燥装置です。 CP - 2200 はカセットの洗浄・乾燥等も可能です。

底面がフラットなフラットパネル用小型クリーナーです。 小型基板や小型の部品などに適しており、従来型SPSタイプを改良することで、さらに低価格を実現しました。 コンプレッサーエアー（CDA）＋排気ラインなど、既存工場設備を利用する事で初期導入費用を抑え、低コストでの運用が可能です。

半導体や LCD 基板の製造工程や、電子機器の実装工程のクリーンユニットに設置する事により、静電気による塵埃の付着や放電による 製品の破壊を防止できます。コントローラー部と放電バー間に低電圧信号線を採用する事により、安全性が向上しています。

USW-102 の PPV 式スリット配列に、エアー圧力を上げた強力型です。 エアー圧の UP により音圧 (dB) をUPさせ、より強力な超音波を発生することで、 USW-102 でも除去が困難な異物を振動励起して除塵効果を更に高めたウェブ用クリーナーです。 V スリットチャンバー内も特殊エアーバランサーを入れ、幅方向のエアーバランスは、より均一化されたものになっています。磁気テープ、写真用フィルム、X 線フィルム、各種フィルム、金属箔、紙、金属ロール、ゴムロール等の表面に付着したダストを非接触法で完全に除去します。

MODEL3080Rペンタイプイオナイザは、高周波で発生させたイオンをエアーもしくは窒素にて吹き付け、シリコンウェハやガラスマスク等の表面に静電気により付着した微細ダストを迅速に除去します。 イオン発生とエアー制御スイッチは、ペン本体のグリップ部分に配置し操作性が向上しました。 新機能「パルスエアー」の搭載により、更なる除塵率の向上をお届けします。

従来の仕様に安全回路機能を搭載し、「MODEL 307R」としてバージョンアップしました。 安全回路の搭載により高電圧駆動回路の異常を検知すると、ブザーにてお知らせ、また高圧出力を自動的に遮断する機能を内蔵しました。 スポットから広範囲まで、用途に合わせて最適な除電ができる汎用モデルです。 ガラス基板やディスク上に静電気で付着した塵埃を 0.01μフィルターで濾過したイオンジェットにより除去します。

PV 式スリット配列の USW-101 を進化させた、PPV 式スリット配列です。 独自の超音波セルを二列チドリ配置し、強力に異物を剥離可能なウェブ用クリーナーです。磁気テープ、写真用フィルム、X 線フィルム、各種フィルム、金属箔、紙、金属ロール、ゴムロール等の表面に付着した異物を非接触法で完全に除去します。

フィルムの製造、加工、繊維、製紙等の巻き取り工程において、静電気によるゴミの付着は、製品の歩留まり、時間の浪費等大きな問題になっています。 イオン化エアーバーMODEL 410Rはフィルム等走行しているウェブの上に設置し、非接触にて除電を行う装置です。周波数を10,000Hz以上に上げた高周波イオン発生構造のため通常の200倍以上の連続放電を行い、高速走行のウェブに対しても均一除電が可能です。 　　異常を検知すると自動的に出力を遮断し、警報ブザーが鳴る安全回路を内蔵。

小型基板から第10世代液晶ガラスまで対応する非接触式両面ドライクリーナーです。 フラットパネルディスプレイ (液晶、プラズマ) のアレイ・セル行程で付着したパーティクル等をインラインにて表裏同時にクリーニングが可能です。 コロ・コンベア搬送されるFPDや太陽光発電パネルの両面クリーニングに最適です。

省スペース・省エネ型の超音波エアー基板クリーナーです。 コンパクト設計によるクリーニングヘッドのスリム化を実現し、エアー流量制御によりブロワーユニットも省電力・軽量化を実現しました。 コロ・コンベア搬送されるFPDや太陽光発電パネルの上面クリーニングに最適です。

USG-206 の VPV 式スリット配列に、エアー圧力を上げた強力型です。エアー圧の UP により音圧 (dB) をUP させ、より強力な超音波エアーを発生することで、USG-206でも除去が困難な異物を振動励起して除塵効果を更に高めたフラットパネル用クリーナーの最高峰モデルです。

USG-206 を上下に配置し、フラットパネルディスプレイ (液晶、プラズマ) のアレイ工程、セル工程で付着した異物をインラインにて表裏同時にクリーニングが可能です。基板サイズは小板から大板まで広く対応します。

P エアーチャンバーにイオナイザーを内蔵した汎用タイプ非接触式ドライクリーナーです。 イオン化エアーを吹き付けることで、摩擦帯電の発生を抑え、異物の再付着を防止します。ノズルからの騒音低減だけでなく、ブロワーユニットの大幅な小型化により低価格化を実現しています。

底面がフラットなフラットパネル用小型クリーナーです。 小型基板や小型の部品、12cm光ディスクなどに適しています。 コンプレッサーエアー（CDA）＋排気ラインなど、既存工場設備を利用する事で初期導入費用を抑え、低コストでの運用が可能です。

USG-202 の PPV 式スリット配列に、エアー圧力を上げた強力型です。 エアー圧の UP により音圧 (dB) をUP させ、より強力な超音波を発生することで、USG-202 でも除去が困難な異物を振動励起して除塵効果を更に高めたフラットパネル用クリーナーです。

PV 式スリット配列の USG-201 を進化させた、PPV 式スリット配列です。 独自の超音波セルを二列チドリ配置し、強力に異物を製品表面より剥離可能なフラットパネル用クリーナーです。

除塵対象範囲の狭い基材は、小型ウェブクリーナーをご利用ください。 フィルム端のみの除塵、電極部分、スリッター後の狭幅フィルム、シャフトのクリーニングなどに適しています。

スペーサー散布における凝集物 (クラスター) を除去します。 ヘッドの位置とエアーの流速を調整することで、境界層内の均一な粒子はそのままに、境界層をはみ出した粒子のみ除去します。