• 製品紹介
  • 製品FAQ&活用事例
  • イベント情報
  • ユーザーサポート
  • 会社概要
  • アクセス
  • お問い合わせ
製品一覧
ユーザーサポート
  • ユーザー登録 新規登録/変更/削除
  • ダウンロード オンラインで資料を入手
  • 生産終了製品 今までに発表した製品情報

お問い合わせフォーム

アクセスマップ

製品紹介

「除塵」

スポットクリーナーSPW-20 小型クリーナーSPW-X20(ウェブ用)

スポットクリーナーSPW-20 小型クリーナーSPW-X20(ウェブ用)

スリッター後のフィルムエッジ部の切断粉除去や、幅狭フィルムの表面クリーニングに最適なクリーナーです。シャフトに堆積する切粉対策にも有効にご利用頂けます。

小型クリーナー SPH-X100(基板用)

小型クリーナー SPH-X100(基板用)

有効長300mmまで対応可能な小型クリーナーです。小型ディスプレイ基板やフラットな電子基板の除塵に最適です。 コンプレッサーエアー(CDA)+排気ラインなど、既存の工場設備を利用することで初期導入費用を抑え、低コストで運用が可能です。

有機EL(OLED)用クリーナー USG-401S(N2)

有機EL(OLED)用クリーナー USG-401S(N2)

ヒューグルエレクトロニクスが提供する有機ELディスプレイ用クリーナーは、密閉チャンバー内の窒素環境下で有機蒸着されたガラス表面の異物を除去することが可能です。 すでに多くの有機EL封止(ENCAPSULATION)工程にて使用されており高い評価を頂いています。

全自動EUV POD洗浄システム REN

全自動EUV POD洗浄システム REN

最新の露光技術であるEUV露光に用いられるEUV PODのための全自動洗浄装置です。Inner POD、Outer PODの分解/再組立はもちろん、各PODは個別の専用CHで洗浄/乾燥されます。 完全無人稼動も可能です。 ナノレベルのパーティクル除去を半導体デバイス容器洗浄装置メーカーとして30年間構築した独自の洗浄/乾燥技術で実現します。

SMIF POD/RSP200 洗浄システム CP-2200

SMIF POD/RSP200 洗浄システム CP-2200

CP-2200 は半導体デバイス容器洗浄装置メーカーならではの高度な知識と最新の技術が装備された研究用、パイロットライン等に最適な洗浄・乾燥装置です。 CP - 2200 は8 インチ用 SMIF PODはもちろん、RSP200 /8インチオープンカセットの精密洗浄・完全乾燥も可能です。

全自動FOUP洗浄システム UPC-12500 SORA

全自動FOUP洗浄システム UPC-12500 SORA

300mmウェハ用FOUPの自動洗浄装置としては、世界トップクラスの実績と信頼を得てきたUPC-12100をモデルチェンジ。現代の半導体製造には不可欠な高品質・高スループット・省エネをコンセプトに改良されました。SEMI規格はもちろん、ULやCE規格にも準拠しております。自動搬送システム(AMHS)対応、通信プロトコルはGEM300に対応しており、オンライン管理にも相応しい装置です。 世界最高水準のFOUP洗浄装置、是非、ご検討下さい。

基板用両面クリーナー(省エネ型) USG-402S

基板用両面クリーナー(省エネ型) USG-402S

小型基板から第10世代液晶ガラスまで対応する非接触式両面ドライクリーナーです。 フラットパネルディスプレイ (液晶、有機EL、プラズマ) のアレイ・セル行程で付着したパーティクル等をインラインにて表裏同時にクリーニングが可能です。 コロ・コンベア搬送されるFPDやOLED、太陽光発電パネルの両面クリーニングに最適です。

基板用片面クリーナー(省エネ型) USG-401S

基板用片面クリーナー(省エネ型) USG-401S

省スペース・省エネ型の超音波エアー基板クリーナーです。 コンパクト設計によるクリーニングヘッドのスリム化を実現し、エアー流量制御によりブロワーユニットも省電力・軽量化を実現しました。 FPD、有機EL、PVパネルの上面クリーニングに最適です。

インラインエアーガン MODEL 3100

インラインエアーガン MODEL 3100

手のひらサイズの小型設計により、狭い装置内等への搭載に優れています。 イオン発生方式は、高周波方式を採用しているため、イオンバランスを均一に保ち、精密な除電が可能です。 放電針の「クリーニング警報機能」、高圧異常時の「安全回路機能」を組み込んだ安全設計です。

SMIF POD 洗浄システム CP-2200

SMIF POD 洗浄システム CP-2200

8 インチ用 SMIF POD の精密洗浄・乾燥を目的として開発された前面操作方式のマニュアルセット方式です。 CP - 2200 は半導体デバイスの容器洗浄装置メーカーならではの高度な知識と最新の技術が装備された研究用、パイロットライン等に最適な洗浄・乾燥装置です。 CP - 2200 はカセットの洗浄・乾燥等も可能です。

低圧配線式 DC 式イオナイズィングバー MODEL 453S

 低圧配線式 DC 式イオナイズィングバー MODEL 453S

半導体や LCD 基板の製造工程や、電子機器の実装工程のクリーンユニットに設置する事により、静電気による塵埃の付着や放電による 製品の破壊を防止できます。コントローラー部と放電バー間に低電圧信号線を採用する事により、安全性が向上しています。

ウェブ用クリーナー(ハイエンド高圧型) USW-103

ウェブ用クリーナー(ハイエンド高圧型) USW-103

USW-102 の PPV 式スリット配列に、エアー圧力を上げた強力型です。 エアー圧の UP により音圧 (dB) をUPさせ、より強力な超音波を発生することで、 USW-102 でも除去が困難な異物を振動励起して除塵効果を更に高めたウェブ用クリーナーです。 V スリットチャンバー内も特殊エアーバランサーを入れ、幅方向のエアーバランスは、より均一化されたものになっています。磁気テープ、写真用フィルム、X 線フィルム、各種フィルム、金属箔、紙、金属ロール、ゴムロール等の表面に付着したダストを非接触法で完全に除去します。

ペンタイプイオナイザ MODEL 3080S

ペンタイプイオナイザ MODEL 3080S

MODEL3080Sペンタイプイオナイザは、高周波で発生させたイオンをエアーもしくは窒素にて吹き付け、シリコンウェハやガラスマスク等の表面に静電気により付着した微細ダストを迅速に除去します。 イオン発生とエアー制御スイッチは、ペン本体のグリップ部分に配置し操作性が向上しました。 新機能「パルスエアー」の搭載により、更なる除塵率の向上をお届けします。

クリーンジェットガン MODEL 307R

クリーンジェットガン MODEL 307R

従来の仕様に安全回路機能を搭載し、「MODEL 307R」としてバージョンアップしました。 安全回路の搭載により高電圧駆動回路の異常を検知すると、ブザーにてお知らせ、また高圧出力を自動的に遮断する機能を内蔵しました。 スポットから広範囲まで、用途に合わせて最適な除電ができる汎用モデルです。 ガラス基板やディスク上に静電気で付着した塵埃を 0.01μフィルターで濾過したイオンジェットにより除去します。

ウェブ用クリーナー USW-102

ウェブ用クリーナー USW-102

PV 式スリット配列の USW-101 を進化させた、PPV 式スリット配列です。 独自の超音波セルを二列チドリ配置し、強力に異物を剥離可能なウェブ用クリーナーです。磁気テープ、写真用フィルム、X 線フィルム、各種フィルム、金属箔、紙、金属ロール、ゴムロール等の表面に付着した異物を非接触法で完全に除去します。

スポットクリーナー SPS-10(基板用)

スポットクリーナー SPS-10(基板用)

有効長10~70mmまで対応可能なスポットクリーナーです。小型部品やセルのTAB付けリード部の除塵に最適です。コンプレッサーエアー(CDA)+排気ラインなど、既存の工場設備を利用することで初期導入費用を抑え、低コストで運用が可能です。

ページTOPへ