半導体およびフラットパネル製造関連機器・静電気除去装置・静電気測定機器・純水洗浄装置・塵埃除去装置・半導体検査機器などの開発・製造・販売および輸出入

半導体プロセスは、限りない微細化、新材料の導入、ウェハの大口径化の途上に あります。膨大な投資の効率を上げるため、ミニエンバイロメント (局所清浄化) が 本格的に導入されつつあります。 8 インチのラインでは、SMIF POD が導入され、その清浄度管理が、重要な課題となっています。 ヒューグルエレクトロニクスは、各種ウェハ用容器洗浄装置の長い経験と豊富な実績を 活かし、業界で唯一の全自動搬送、ベース開閉機能付き、SMIF POD 洗浄システムを 開発し、すでに多くの量産ラインで稼動しています。

8 インチ用 SMIF POD の精密洗浄・乾燥を目的として開発された前面操作方式のマニュアルセット方式です。 CP - 2200 は半導体デバイスの容器洗浄装置メーカーならではの高度な知識と最新の技術が装備された研究用、パイロットライン等に最適な洗浄・乾燥装置です。 CP - 2200 はカセットの洗浄・乾燥等も可能です。

放電バー個々にイオンバランス調整機能が 付いているため、各設置場所に合わせた 調整が可能です。 また、正イオンの発生時に赤、負イオンの 発生時には緑色の LED が点灯します。 放電バーはクリーンルームの気流を乱さない 当社独自の流線型形状で、設置場所に 合わせて最長 2,500 mm までの受注生産 方式を採用しています。 放電針は従来の金属性電極に比べ 耐摩耗性、耐薬品性に優れ金属汚染の無い ポリシリコン放電針の使用が可能です。

半導体や LCD 基板の製造工程や、電子機器の実装工程のクリーンユニットに設置する事により、静電気による塵埃の付着や放電による 製品の破壊を防止できます。コントローラー部と放電バー間に低電圧信号線を採用する事により、安全性が向上しています。

MODEL3080Rペンタイプイオナイザは、高周波で発生させたイオンをエアーもしくは窒素にて吹き付け、シリコンウェハやガラスマスク等の表面に静電気により付着した微細ダストを迅速に除去します。 イオン発生とエアー制御スイッチは、ペン本体のグリップ部分に配置し操作性が向上しました。 新機能「パルスエアー」の搭載により、更なる除塵率の向上をお届けします。