前工程要素機器関連

CVD 排ガス処理システムについて

温度検出ウェハについて

ヒーターについて

CVD 排ガス処理システムについて

Q1
装置構成は
A1

チャンバー、電極、RF 電源の 3 部品で非常にシンプルに構成されています。

Q2
使用箇所は
A2

主に、LPCVD、PECVD 装置の真空排気ライン (ポンプ上流側) に設置します。

Q3
対応プロセス
A3

ウェハ、ガラス基板の成膜プロセスは、ほぼ全てに対応可能です。

Q4
どのようにトラップするのですか
A4

電極内でプラズマを発生させ、流入した未反応ガスを膜として電極板にトラップします。

Q5
設置メリットは
A5

ポンプライフの延長、CVD 装置ダウンタイムの削減等による、大幅なコスト削減に寄与します。

ページTOPへ

温度検出ウェハについて

Q1
対応プロセス
A1

拡散、CVD、アニール、スパッター、レジストベーク等、加熱する用途で対応可能です。

Q2
温度範囲は
A2

-40 ℃ ~ 1400 ℃ で使用可能です。

Q3
熱電対の種類は
A3

主に K 型、R 型、他にT型等を各種取り揃えています。

Q4
ウェハと熱電対の取り付け方法は
A4

高温仕様はシリコン溶接にて取り付けています。

Q5
熱電対の長さは
A5

任意の長さにより製作可能です。

ページTOPへ

ヒーターについて

Q1
製品の種類は
A1

材質的に大別して、テフロン系/石英/ステンレスの 3 種類があります。
いわゆる温度制御部が一体型の装置群と、インライン型の製品群、及びタンク投げ込み可能なヒーターもあります。

Q2
どんな媒体を加熱できますか
A2

超純水、ケミカル (酸・アルカリなど) に対応できます。
その他インラインヒーターにはガス (窒素など) に対応可能な商品もあります。

Q3
対応プロセス
A3

ウェハやガラス基板を洗浄する工程ではもちろん、その他の工程でも何らかの溶液を加熱 (保温) する用途であれば対応可能です。

Q4
製造装置への特注仕様は可能ですか
A4

標準品以外にも、各装置の多種多様な仕様に見合う商品を受注生産できます。

Q5
純水加熱装置の対応可能流量は
A5

2 ~ 50 LPM の範囲でコントローラが管理しています。
これは、低流量時の空焚き対策のインターロックです。大流量への対応は ~ 200 kW という幅広い商品群で対応可能です。

ページTOPへ

03-3263-666203-3263-6662

※営業部直通(9:00~17:00)