レチクル対応 洗浄装置

レチクル専用容器であるRSP200,及びRSP150のフルオート洗浄システムです。 高い洗浄性能を搭載した本装置はナノレベルのパーティクル除去を実現しております。 精密洗浄、省スペースをメインコンセプトとしており、効率的な生産環境の構築をサポート致します。

最新の露光技術であるEUV露光に用いられるEUV PODのための全自動洗浄装置(特許取得済)です。Inner POD、Outer PODの分解/再組立はもちろん、各PODは個別の専用CHで洗浄/乾燥されます。 完全無人稼動も可能です。 ナノレベルのパーティクル除去を半導体デバイス容器洗浄装置メーカーとして30年間構築した独自の洗浄/乾燥技術で実現します。

8 インチ用 SMIF POD の精密洗浄・乾燥を目的として開発された前面操作方式のマニュアルセット方式です。 IA-8は半導体デバイスの容器洗浄装置メーカーならではの高度な知識と最新の技術が装備された研究用、パイロットライン等に最適な洗浄・乾燥装置です。 IA-8はカセットの洗浄・乾燥等も可能です。(その他容器についてもご相談に応じます。)

03-3263-666203-3263-6662

※営業部直通(9:00~17:00)