半導体およびフラットパネル製造関連機器・静電気除去装置・静電気測定機器・純水洗浄装置・塵埃除去装置・半導体検査機器などの開発・製造・販売および輸出入

本装置はCRD-4500の後継機として開発され、最大8"ウェハキャリア及びBOXまで対応可能な自動洗浄システムです。洗浄対象は専用トレイにセットされ、各処理チャンバーで効率の良い洗浄/乾燥が行われます。ワイヤトレイの搬送には、パーティクル防止対策がなされてたヒューグル独自の特殊ローラー方式を採用しています。

CP-2200 は半導体デバイス容器洗浄装置メーカーならではの高度な知識と最新の技術が装備された研究用、パイロットライン等に最適な洗浄・乾燥装置です。 CP - 2200 は8 インチ用 SMIF PODはもちろん、RSP200 ／8インチオープンカセットの精密洗浄・完全乾燥も可能です。