半導体およびフラットパネル製造関連機器・静電気除去装置・静電気測定機器・純水洗浄装置・塵埃除去装置・半導体検査機器などの開発・製造・販売および輸出入

有効長300mmまで対応可能な小型クリーナーです。小型ディスプレイ基板やフラットな電子基板の除塵に最適です。 コンプレッサーエアー（CDA）＋排気ラインなど、既存の工場設備を利用することで初期導入費用を抑え、低コストで運用が可能です。

本装置はCRD-4500の後継機として開発され、最大8"ウェハキャリア及びBOXまで対応可能な自動洗浄システムです。洗浄対象は専用トレイにセットされ、各処理チャンバーで効率の良い洗浄/乾燥が行われます。ワイヤトレイの搬送には、パーティクル防止対策がなされてたヒューグル独自の特殊ローラー方式を採用しています。

CP-2200 は半導体デバイス容器洗浄装置メーカーならではの高度な知識と最新の技術が装備された研究用、パイロットライン等に最適な洗浄・乾燥装置です。 CP - 2200 は8 インチ用 SMIF PODはもちろん、RSP200 ／8インチオープンカセットの精密洗浄・完全乾燥も可能です。

300mmウェハ用FOUPの自動洗浄装置としては、世界トップクラスの実績と信頼を得てきたUPC-12100をモデルチェンジ。現代の半導体製造には不可欠な高品質・高スループット・省エネをコンセプトに改良されました。SEMI規格はもちろん、ULやCE規格にも準拠しております。自動搬送システム（AMHS）対応、通信プロトコルはGEM300に対応しており、オンライン管理にも相応しい装置です。 世界最高水準のFOUP洗浄装置、是非、ご検討下さい。

フレキシブルＡＣ方式でイオンを発生し周波数切替により搬送中などの近距離からクリンブースなどの遠距離までを幅広く除電可能です。 またマイコン制御でイオンバランスをオートコントロールします。

8 インチ用 SMIF POD の精密洗浄・乾燥を目的として開発された前面操作方式のマニュアルセット方式です。 CP - 2200 は半導体デバイスの容器洗浄装置メーカーならではの高度な知識と最新の技術が装備された研究用、パイロットライン等に最適な洗浄・乾燥装置です。 CP - 2200 はカセットの洗浄・乾燥等も可能です。

スペースを選ばない超小型 軟 X 線照射イオナイザー。 光がガス分子を直接イオン化して除電します。

液晶パネルや半導体製造工程での 静電気対策に各種除電装置は不可欠な ものですが、思わぬトラブルや環境異常等に よる除電ミスが製品の品質、製造コストの 上昇、効率化等に影響を及ぼします。 MODEL 750 は 1 台で製造工程中の 5 ヶ所 での静電気監視、管理が行えます。

半導体や LCD 基板の製造工程や、電子機器の実装工程のクリーンユニットに設置する事により、静電気による塵埃の付着や放電による 製品の破壊を防止できます。コントローラー部と放電バー間に低電圧信号線を採用する事により、安全性が向上しています。

MODEL3080Sペンタイプイオナイザは、高周波で発生させたイオンをエアーもしくは窒素にて吹き付け、シリコンウェハやガラスマスク等の表面に静電気により付着した微細ダストを迅速に除去します。 イオン発生とエアー制御スイッチは、ペン本体のグリップ部分に配置し操作性が向上しました。 新機能「パルスエアー」の搭載により、更なる除塵率の向上をお届けします。

従来の仕様に安全回路機能を搭載し、「MODEL 307R」としてバージョンアップしました。 安全回路の搭載により高電圧駆動回路の異常を検知すると、ブザーにてお知らせ、また高圧出力を自動的に遮断する機能を内蔵しました。 スポットから広範囲まで、用途に合わせて最適な除電ができる汎用モデルです。 ガラス基板やディスク上に静電気で付着した塵埃を 0.01μフィルターで濾過したイオンジェットにより除去します。