半導体およびフラットパネル製造関連機器・静電気除去装置・静電気測定機器・純水洗浄装置・塵埃除去装置・半導体検査機器などの開発・製造・販売および輸出入

有効長300mmまで対応可能な小型クリーナーです。小型ディスプレイ基板やフラットな電子基板の除塵に最適です。 コンプレッサーエアー（CDA）＋排気ラインなど、既存の工場設備を利用することで初期導入費用を抑え、低コストで運用が可能です。

本装置はCRD-4500の後継機として開発され、最大8"ウェハキャリア及びBOXまで対応可能な自動洗浄システムです。洗浄対象は専用トレイにセットされ、各処理チャンバーで効率の良い洗浄/乾燥が行われます。ワイヤトレイの搬送には、パーティクル防止対策がなされてたヒューグル独自の特殊ローラー方式を採用しています。

8 インチ用 SMIF POD の精密洗浄・乾燥を目的として開発された前面操作方式のマニュアルセット方式です。 IA-8は半導体デバイスの容器洗浄装置メーカーならではの高度な知識と最新の技術が装備された研究用、パイロットライン等に最適な洗浄・乾燥装置です。 IA-8はカセットの洗浄・乾燥等も可能です。(その他容器についてもご相談に応じます。）

300mmウェハ用FOUPの自動洗浄装置としては、世界トップクラスの実績と信頼を得てきたUPC-12100をモデルチェンジ。 現代の半導体製造には不可欠な高品質・高スループット・省エネをコンセプトに改良されました。 SEMI規格はもちろん、CE規格にも準拠しております。 自動搬送システム（AMHS）対応、通信プロトコルはGEM300に対応しており、オンライン管理にも相応しい装置です。 世界最高水準のFOUP洗浄装置、是非、ご検討下さい。

新制御方式（フレキシブルＡＣ）でイオンを発生し、周波数を切替える事により 搬送中などの近距離からクリンブースなどの遠距離までを幅広く最適に除電します。 【フレキシブルAC方式とは】 本体底面に配置されたイオン量センサで、帯電状態やイオンバランスを計測し、その計測状態に応じて印加電圧をフレキシブルに制御し、除電効率を向上させる方式。

8 インチ用 SMIF POD の精密洗浄・乾燥を目的として開発された前面タッチパネル方式のマニュアル洗浄機です。 IA-8 は、容器洗浄装置メーカーならではの高度な知識と最新の技術が装備された研究用、パイロットライン等に最適な洗浄・乾燥装置です。 IA-8 はカセットの洗浄・乾燥等も可能です。

FPD（LP-TFT・OLED）の製造プロセスをはじめ、静電気制御が必要な工程に、画期的な性能でお応えする軟X線イオナイザです。一般大気中のあらゆる製造環境で、スペースにとらわれずにお使いいただける最先端の除電システムです。 今、 静電気対策のスタンダード技術として、多大な信頼をいただいています。

液晶パネルや半導体製造工程での静電気対策に各種イオナイザ（除電装置）は不可欠なものですが、思わぬトラブルや環境異常等による除電ミスが製品の品質、製造コストの上昇、歩留まり等に影響を及ぼします。 MODEL 750 は 1 台で製造工程中の 5 ヶ所での静電気監視、管理が行えます。

お客様のご要望の通りにミリ単位で製作可能なバータイプ イオナイザのご紹介です。 半導体やFPD業界の製造装置内への設置もオーダメイド製作のため簡単に後付け設置可能です。又、半導体やFPD基板の製造工程や、電子機器の実装工程のクリーンブース/クリーンベンチに設置する事により、静電気による塵埃の付着・放電による製品の破壊を防止できます。 コントローラー部と放電バー間にDC12V信号線を採用する事により、安全性が更に向上しています。

新機能「パルス(間欠)エアー」の搭載により、更なる除塵率の向上が可能となりました。 このペンタイプ イオナイザは、高周波で発生させたイオンをエアー 又は 窒素にてシリコンウェハやガラスマスク表面に吹付け、静電気により付着した微細ダストを正確に、素早く除去することが出来ます。 イオン発生とエアー制御スイッチはペン本体のグリップ部分に配置し、操作性・ピンポイント除電/除塵性能が向上しました。

本製品は、従来の仕様に安全回路機能を搭載し「MODEL 307R」としてバージョンアップ致しました。 安全回路の搭載により高電圧駆動回路の異常を検知すると、ブザーにてお知らせし、高圧出力を自動的に遮断する機能を内蔵しました。（高安全設計） 除電・除塵エリア（スポットから広範囲まで）を用途に合わせて、ノズル選択できる汎用モデルです。 ガラス基板・ディスク・ウェハ・レチクル上に静電気で付着した塵埃を 0.01μフィルターで濾過したイオン化エアー（又は、窒素）により素早く・正確に除去します。