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「レティクル」

EUV POD フルオート洗浄システム SR-EUV(REN)

EUV POD フルオート洗浄システム SR-EUV(REN)

最新の露光技術であるEUV露光に用いられるEUV PODのための全自動洗浄装置(特許取得済)です。Inner POD、Outer PODの分解/再組立はもちろん、各PODは個別の専用CHで洗浄/乾燥されます。 完全無人稼動も可能です。 ナノレベルのパーティクル除去を半導体デバイス容器洗浄装置メーカーとして30年間構築した独自の洗浄/乾燥技術で実現します。

SMIF POD/レチクルPOD マニュアル洗浄システム IA-8

SMIF POD/レチクルPOD マニュアル洗浄システム IA-8

8 インチ用 SMIF POD の精密洗浄・乾燥を目的として開発された前面操作方式のマニュアルセット方式です。 IA-8は半導体デバイスの容器洗浄装置メーカーならではの高度な知識と最新の技術が装備された研究用、パイロットライン等に最適な洗浄・乾燥装置です。 IA-8はカセットの洗浄・乾燥等も可能です。(その他容器についてもご相談に応じます。)

SMIF POD マニュアル洗浄システム IA-8

SMIF POD マニュアル洗浄システム IA-8

8 インチ用 SMIF POD の精密洗浄・乾燥を目的として開発された前面タッチパネル方式のマニュアル洗浄機です。 IA-8 は、容器洗浄装置メーカーならではの高度な知識と最新の技術が装備された研究用、パイロットライン等に最適な洗浄・乾燥装置です。 IA-8 はカセットの洗浄・乾燥等も可能です。

オーダーメイド バーイオナイザ MODEL 453S

オーダーメイド バーイオナイザ MODEL 453S

お客様のご要望の通りにミリ単位で製作可能なバータイプ イオナイザのご紹介です。 半導体やFPD業界の製造装置内への設置もオーダメイド製作のため簡単に後付け設置可能です。又、半導体やFPD基板の製造工程や、電子機器の実装工程のクリーンブース/クリーンベンチに設置する事により、静電気による塵埃の付着・放電による製品の破壊を防止できます。 コントローラー部と放電バー間にDC12V信号線を採用する事により、安全性が更に向上しています。

ペンタイプ イオナイザ MODEL 3080S

ペンタイプ イオナイザ MODEL 3080S

新機能「パルス(間欠)エアー」の搭載により、更なる除塵率の向上が可能となりました。 このペンタイプ イオナイザは、高周波で発生させたイオンをエアー 又は 窒素にてシリコンウェハやガラスマスク表面に吹付け、静電気により付着した微細ダストを正確に、素早く除去することが出来ます。 イオン発生とエアー制御スイッチはペン本体のグリップ部分に配置し、操作性・ピンポイント除電/除塵性能が向上しました。

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