半導体およびフラットパネル製造関連機器・静電気除去装置・静電気測定機器・純水洗浄装置・塵埃除去装置・半導体検査機器などの開発・製造・販売および輸出入

最新の露光技術であるEUV露光に用いられるEUV PODのための全自動洗浄装置です。Inner POD、Outer PODの分解/再組立はもちろん、各PODは個別の専用CHで洗浄/乾燥されます。 完全無人稼動も可能です。 ナノレベルのパーティクル除去を半導体デバイス容器洗浄装置メーカーとして30年間構築した独自の洗浄/乾燥技術で実現します。

CP-2200 は半導体デバイス容器洗浄装置メーカーならではの高度な知識と最新の技術が装備された研究用、パイロットライン等に最適な洗浄・乾燥装置です。 CP - 2200 は8 インチ用 SMIF PODはもちろん、RSP200 ／8インチオープンカセットの精密洗浄・完全乾燥も可能です。

8 インチ用 SMIF POD の精密洗浄・乾燥を目的として開発された前面操作方式のマニュアルセット方式です。 CP - 2200 は半導体デバイスの容器洗浄装置メーカーならではの高度な知識と最新の技術が装備された研究用、パイロットライン等に最適な洗浄・乾燥装置です。 CP - 2200 はカセットの洗浄・乾燥等も可能です。

半導体や LCD 基板の製造工程や、電子機器の実装工程のクリーンユニットに設置する事により、静電気による塵埃の付着や放電による 製品の破壊を防止できます。コントローラー部と放電バー間に低電圧信号線を採用する事により、安全性が向上しています。